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       在半導體集成電路制造中，光刻機的得力“搭檔”就是涂膠顯影設備，它就像是光刻機的左膀右臂，在芯片制造的“畫布” 上精心勾勒每一筆。這個神奇的設備不僅要確保圖案清晰精準，還要為后續工藝打好基礎。現在中國半導體產業正在騰飛，要想   在激烈的競爭中拔得頭籌，突破涂膠顯影技術的瓶頸勢在必行。

文 /Kollmorgen 科爾摩根區域應用經理 俞海

1 涂膠顯影的核心要素
  涂膠顯影設備的基本原理是在高度自動化環境中，通過 精準控制將光刻膠均勻涂抹于硅片之上，隨后經由一系列精 細處理，使晶圓表面形成功能性的薄膜層。這項工藝涉及到 高速旋轉與精確位置控制，因此，設備的核心驅動力——電機 的選擇至關重要。在運行過程中，加速度越大，就越能保證 膠膜的均勻性，理想的電機應能在極短的時間內達到并穩定 在4000RPM以上，同時保證最小的振動與最大的能量效率， 這些對技術的要求極高。

2 應用挑戰——打破邊界 尋求突破
  盡管傳統電機在一定程度上能滿足基礎需求，但在應 對高動態負載與長時間穩定運行方面存在局限性，特別是在 高轉速場景下容易出現加速遲緩、定位精度下降等問題。此 外，復雜的機械結構及易損件的定期更換，也加大了維護成 本與停機風險，限制了設備的可用性與可靠性，亟需一種革 新性的解決方案來打破現狀。

3 科爾摩根如何破局——創新驅動 成就出色
  針對這種高速高動態主軸系統的需求，科爾摩根運動 控制專家采用了定制化KBM系列無框直驅電機搭配AKD驅 動器的直驅技術解決方案，幫助涂膠顯影設備提質增效， 重塑行業標準，方案優勢包括：
 （1）快速響應
  KBM電機搭配AKD驅動器，能夠在瞬息之間達到高達 4000+RPM的轉速，大大縮短了啟動時間，顯著提升了工作 效率與靈活性。相比傳統電機，其加速時間大幅度縮短至 100毫秒以內，有效改善了工藝節奏，滿足了現代半導體制 造的高要求。
 （2）精確定位
  借助出色的三環刷新頻率和伺服算法，AKD驅動器確 保了電機在全速范圍內的高精度運轉。即使在最惡劣的工 況下也能保持穩定性能，避免了機械振動和誤差累積，實現出色的同步控制，保障了涂層的均勻性與一致性。
（3）持久耐用
  KBM電機的模塊化設計與高質量材料選擇，不僅簡化了 設備構造，還提高了系統的可靠性和耐久性。相比于傳統方 案，這種設計減少了維護頻次和潛在故障點，延長了使用壽 命，從而降低了總擁有成本。
（4）智能監控
  AKD驅動器內置的智能診斷工具可實時監測系統健康狀 況，提前預警潛在故障，便于及時采取措施，確保生產的連 續性。

4 客戶收益——全面升級 效率/效益雙豐收
  科爾摩根的創新解決方案為客戶帶來了全方位的價值提 升，具體表現為：
· 生產效率激增
  通過定制方案，可實現超短時間加速到4700RPM，并保證 速度波動在千分之一以內甚至更小。得益于快速啟動與高精度 控制，工藝節拍時間顯著縮短，單位時間內產量大幅度增長；
· 品質保障無憂
  穩定的電氣特性使定位精度和重復定位精度更穩定，穩 定而精準的作業模式降低了不良品率，確保每一片晶圓都能 達到高標準，提高了客戶滿意度與市場競爭力；
· 維護成本優化
  簡化的機械結構與強化的組件耐用性，降低了日常維護 的難度和成本，同時也降低了非計劃停機的風險，間接提升 了設備投資回報率。