RS 系列多功能一體式 I/O 助力半導體行業顯影涂膠更精密

文:南京德克威爾自動化有限公司2025年第三期

摘要: 在半導體、PCB 等電子制造領域,顯影和涂膠是不可或缺的工序,且對于加工精度和穩定性都有著嚴苛的要 求,本文簡要介紹了德克威爾RS系列多功能一體式I/O在這一特殊制造場景中的應用特點及技術優勢。


文/南京德克威爾自動化有限公司

1 行業解析——顯影涂膠

在半導體、PCB 等電子制造領域,顯影和涂膠是不可或 缺的工序。顯影過程將光刻膠中的曝光部分去除,從而在基 板上形成精確的圖案;而涂膠則是在基板表面均勻地覆蓋一 層光刻膠,為后續的光刻步驟做準備。這兩個步驟的精度和 穩定性,直接決定了最終產品的線路精度、電氣性能等關鍵 指標。
隨著電子產品朝著小型化、高性能化發展,顯影涂膠工 藝面臨著諸多挑戰。一方面,對涂膠厚度的均勻性和圖案精度 要求越來越高,傳統設備難以滿足高精度的生產需求;另一方 面,生產效率和設備穩定性也是制約行業發展的重要因素。

2 現場“痛點”——RS系列輕松解決

在實際生產中,許多企業使用的傳統顯影涂膠設備暴露 出了一系列問題。
(1)痛點1:無法精確控制
實際顯影涂膠工藝中,單個工位往往需要數字量與模擬 量混合使用 ,對模塊的兼容性要求極高。在一些高精度芯片 制造中,哪怕是微小的厚度偏差,都可能導致芯片性能下降 甚至報廢。
德克威爾RS系列:采用分體式設計,可任意選擇面板 (圖1);長款底座設計精妙,支持兩個插槽同時運作,完 美兼容數字量與模擬量的混合運用。
這意味著在處理復雜的顯影涂膠任務時,能夠精準調控 各類參數,比如通過精確的數字量控制實現對涂膠位置的精 準定位,利用模擬量的連續變化特性精細調整涂膠的流量與 速度,極大地提升了顯影涂膠的精度,成功適配了工藝端對 高精度的嚴苛要求。

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2)痛點2:效率低下
設備的運行速度慢,生產周期長,無法滿足大規模生產 的需求。特別是在市場需求旺盛時,產能不足成為企業發展 的瓶頸。
德克威爾RS系列:

①數據傳輸速度可達 100Mbps,信號傳輸穩定可靠, 響應時間在11μs內,設備運行速度相比傳統設備提升了 50%,大大提高了生產效率;
②分體式設計,可靈活配置,為現代工業自動化提供了 高效、可靠的解決方案(圖2)。
(3)痛點3:穩定性差
設備頻繁出現故障,需要大量的維護和維修工作,不僅 增加了生產成本,還影響了生產計劃的順利進行。
德克威爾RS系列:
①采用高品質的硬件組件和嚴格的質量檢測流程,其 EMC 測試標準遠超國家標準,能有效抵御電磁干擾,確保設 備在長時間運行中穩定可靠;
②具有先進的故障診斷系統,能夠實時監測設備狀態,提 前預警潛在故障,降低設備故障率,減少維護成本(圖3);
③擁有熱插拔功能,在設備運行過程中可直接插拔模 塊,無需停機,大大降低了維護難度和成本,提高了維護 效率。

3 德克威爾方案——顯影涂膠控制系統

西門子1200 PLC結合德克威爾的RS系列I/O模塊,構成 了一套高效的顯影涂膠控制系統。該系統能夠接收多種傳感 器信號,如溫度傳感器、濕度傳感器和涂膠厚度傳感器,實 時監測涂膠過程的環境條件與涂層質量。
PLC根據這些數據精確控制負載,包括涂膠機的攪拌電 動機、噴涂系統和加熱裝置,從而優化涂膠效果,確保涂層 均勻性和穩定性。通過這種智能化的監測與控制,顯影涂膠 工藝能夠提高生產效率,確保產品質量。
(1)系統結構
德克威爾顯影涂膠控制系統方案結構拓撲圖如圖4所示。
(2)具體配置
· 主站:西門子PLC;
· 適用工藝段:顯影涂膠;
· 項目I/O配置:1*RS-PN2+4*16DI+4*16DO+1*8AI。

4 客戶評價

德克威爾RS系列模塊抗干擾能力強,能幫助客戶精準 調控各類參數,保證數據傳輸穩定,與 PLC 協同作業高效流 暢,為顯影涂膠精準度與效率提升給予堅實保障。

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