領先的濕法化學生產設備專家RENA與imec合作，日前為直拉硅片紋理開發一種新型無異丙醇工藝，被稱為“monoTEXF”，RENA的下一代紋理助劑。
然而，美國AkrionSystems，半導體行業一家著名的濕法化學公司，正在發表論文，盡管沒有參展，但是涵蓋用于堿性紋理的無異丙醇助劑。
根據RENA，其monoTEXF是一種緩和潤濕劑，據說在溫度和堿濃度變化過程中，幾乎呈現“線性”，這使得其在紋理工序中以遠低于其沸點的溫度運作，否定蒸發并在刻蝕結構中提供穩定的濃度比例。因此，monoTEXF簡化紋理并且同時放寬紋理工藝窗口，增加紋理槽壽命，其有助于降低整個工藝的成本。
Imec的研發項目經理約阿希姆·約翰（JoachimJohn）博士表示：“當在我們的硅光伏中試線中應用這一新型monoTEXF基紋理，以處理大面積（156x156mm2）PERC型太陽能電池時，我們實現遠高于21%的卓越轉換效率。我們相信，RENA的monoTEX？F基紋理工藝是對下一代高容量直拉硅太陽能電池制造的一個絕佳候選方案。”
AkrionSystems應用和技術副總裁IsmailKashkoush博士在周一發布論文，在一篇名為《先進太陽能電池制造中無異丙醇紋理工藝的發展》的口頭報告中，強調其無異丙醇解決方案。
周二一篇名為《KOH溶液及助劑導電性和pH值測量相關性》的口頭報告，其中包括這篇文章的共同著者，法國BourgetduLac、CEA的AdrienDanel、以及Akrion的Chen博士、JenniferRieker和DennisNemeth。這篇文章推斷專利閉環濃度控制的使用大幅減少返工，并且硅片工藝使得制造強勁并且成本降低。”
RENA與imec都參展EUPVSEC。
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