電子束誘導(dǎo)電流(EBIC:Electron Beam Induced Current)是研究晶體缺陷(如晶界、位錯、沉淀等)復(fù)合特...[查看詳情]
以RTCVD方法在低成本襯底——顆粒硅帶(SSP)上制備了外延晶體硅薄膜電池.在20×20mm2上得到的最高轉(zhuǎn)換...[查看詳情]
在n-Si(4~5Ω·cm)襯底上淀積了400nm厚的納米晶體硅(nc-Si)量子點薄膜,將其制備成場致發(fā)射的冷陰極...[查看詳情]
該文主要介紹一種制造太陽電池的選擇性擴散新工藝,采用印刷電極的方法在硅片上的電極位置印刷高 磷漿料,...[查看詳情]
目的:研究非晶體硅平板探測器在不同輻射劑量下的圖像質(zhì)量,并比較平板探測器(FPD)、熒光存儲和屏-片系...[查看詳情]
100MW晶體硅太陽能電池片生產(chǎn)線在湘投產(chǎn)
中電科技集團第48所100MW晶體硅太陽能電池片生產(chǎn)線一期工程竣工投產(chǎn)暨二期莫基儀式在長沙隆重舉行。湖南...[查看詳情]
晶體硅太陽電池是目前技術(shù)最成熟、應(yīng)用最廣泛的太陽電池。以晶體硅太陽電池的生產(chǎn)流程為基礎(chǔ),主要從提...[查看詳情]
提出了一種基于雙向觸發(fā)二極管和單電容定時的,用于爆閃式信號燈的脈沖序列發(fā)生器。這種脈沖序列發(fā)生器...[查看詳情]
基于標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝的一款寬帶限幅放大器芯片設(shè)計
采用SMIC 0.35μm CMOS混合信號工藝來設(shè)計開發(fā)一款適用于SDH STM-16的光接收機前端限幅放大器芯片。該...[查看詳情]
以NiS04·6H2O和NaOH為原料,采用常溫合成一水熱改性一中溫焙燒工藝制備了分散性好、平均粒徑約為40nm的...[查看詳情]