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NAND閃存景氣回升 資本性支出將增40%至310億美元

時間:2018-07-16

來源:網絡轉載

導語:2018年NAND Flash行業的資本支出實現8年以來的最大增幅,表面了全球存儲器廠商對閃存市場的持續看好與積極投入,NAND Flash市場有望被全面打開。

NAND閃存景氣回升 資本性支出將增40%至310億美元近日,據ICInsights的數據預測,2018年NANDFlash行業的資本支出(CAPEX)將比預期產量增加40%以上,從2017年的220億美元增至2018年的310億美元,屬于近8年來的最大增幅。

其中,3DNAND的市場需求,成為驅動NAND閃存資本支出激增的主要因素之一。3DNAND閃存技術采用堆疊的方式處理設備層關系,可以使得每顆芯片的儲存容量增加,從而實現更大的結構和單元間隔,利于增加產品的耐用性、降低生產成本。因此深受NAND閃存廠商的追捧,目前已成為NAND閃存廠商的主攻方向。

首先,我們需要先理解一個概念:資本性支出(CAPEX)。大量的CAPEX通常預示著有新的項目即將開始,生產和銷售上都會出現巨大增長。與運營投資相反,CAPEX項目運行期間公司需要一直投錢,以此孕育未來的長期收益。因此,2018年NANDFlash行業的資本支出實現8年以來的最大增幅,表面了全球存儲器廠商對閃存市場的持續看好與積極投入,NANDFlash市場有望被全面打開。

到底是哪些芯片廠商全面看好NAND閃存,正大刀闊斧地加碼3DNAND閃存產能?

一方面,國際閃存大廠的3DNAND堆疊大戰正在如火如荼地進行中。今年6月下旬,美光公布了2018財年第三季度的結果,同時也公布未來的發展方向,預告在2018年下半年96層3DNAND技術將會開始批量出貨,可進一步增加每個芯片的儲存容量,從而能夠打造出更小,更節能的設備。兩周后,三星也高調宣布已開始量產第五代3DNAND閃存顆粒,層疊層數為96層,產能得到30%的提升。同時,根據消息人士透露,三星今年投資在NANDFlash閃存上的資本支出預計是64億美元,2019年更是會提高到90億美元。

美光、三星釋放信號僅是個開端,SK海力士、Intel、東芝、西數/閃迪等都表態在幾年內將持續擴充閃存產能,為跨入96層、甚至更高層數而加大投入力度。可見,3DNAND閃存已經成為國際存儲器廠商間的“主戰場”。

另一方面,以長江存儲為代表的中國存儲器廠商,也加快了項目進展的步伐。據公開資料顯示,由長江存儲主導的國家存儲器基地已于2018年4月11日,正式進場安裝生產設備。同時,專注于行動式內存的合肥長鑫,以及晉華集成的試產時間也調快至2018年下半年。可以說,2018年或將成為中國存儲器的生產元年。

當然,全球的NAND閃存資本支出大增,只能印證NAND閃存行業投資景氣的上升,今后存儲器的市場表現如何,還需要時間來證明。畢竟在存儲器市場的歷史先例里,過多的資本支出通常會導致產能過剩和定價疲軟,投資風險還是存在的。

因此,思考當前取得的競爭優勢,當前的技術還有哪些用武之地,以及今后的發展方向,為下一次發展奠定基礎。這對國產存儲器廠商來說,仍然具有深遠意義。

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