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世界上最小的靜態存儲單元問世

時間:2008-08-21

來源:中國傳動網

導語:美國IBM公司、AMD以及紐約州立大學Albany分校的納米科學與工程學院(CNSE)等機構共同宣布,世界上首個22納米節點有效靜態隨機存儲器(SRAM)研制成功。

編者按:世界上最小的靜態存儲單元問世,這也是全世界首次宣布在300毫米研究設備環境下,制造出有效存儲單元。 日前,美國IBM公司、AMD以及紐約州立大學Albany分校的納米科學與工程學院(CNSE)等機構共同宣布,世界上首個22納米節點有效靜態隨機存儲器(SRAM)研制成功。這也是全世界首次宣布在300毫米研究設備環境下,制造出有效存儲單元。 SRAM芯片是更復雜的設備,比如微處理器的“先驅”。SRAM單元的尺寸更是半導體產業中的關鍵技術指標。最新的SRAM單元利用傳統的六晶體管設計,僅占0.1平方微米,打破了此前的SRAM尺度縮小障礙。 新的研究工作是在紐約州立大學Albany分校的納米科學與工程學院(CNSE)完成的,IBM及其他伙伴的許多頂尖的半導體研究都在這里進行。IBM科技研發部副總裁T.C. Chen博士稱,“我們正在可能性的終極邊緣進行研究,朝著先進的下一代半導體技術前進。新的研究成果對于不斷驅動微電子設備小型化的追求,可以說至關重要。” 22納米是芯片制造的下兩代,而下一代是32納米。在這方面,IBM及合作伙伴正在發展它們無與倫比的32納米高K金屬柵極工藝(high-K metal gate technology)。 從傳統上而言,SRAM芯片通過縮小基本構建單元,來制造得更加緊密。IBM聯盟的研究人員優化了SRAM單元的設計和電路圖,從而提升了穩定性,此外,為了制造新型SRAM單元,他們還開發出幾種新的制作工藝流程。研究人員利用高NA浸沒式光刻(high-NA immersion lithography)技術刻出了模式維度和密度,并且在先進的300毫米半導體研究環境中制作了相關部件。 與SRAM單元相關的關鍵技術包括:邊帶高K金屬柵極、<25納米柵極長度晶體管、超薄隔離結構(spacer)、共同摻雜、先進激活技術、極薄硅化物膜以及嵌入式銅觸點等。 據悉,在2008年12月15至17日美國舊金山將要舉行的IEEE國際電子設備(IEDM)年會上,還會有專門的報告來介紹最新成果的細節。
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