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　1 真空應用與要求

　　“真空”的基本定義是指某一空間內的氣體分子透過外力將其移走，使氣壓下降小于大氣，從而產生真空。在實驗室或工廠中制造真空的方法是利用泵在密閉的空間中(一般叫真空腔)抽出空氣以達到不同純度的真空，一般分為低真空、中等真空、高真空或超高真空。

　　許多精密工業制程都必需在真空環境下進行，目的是減少任何氣體份子在制程中對加工品的影響。而制程中所涉及到的相關運動控制零組件如導軌，基體等金屬材料，以及電機散熱問題，則需要經過嚴格考慮，并采用兼容真空環境的光柵系統。

　　在真空環境中應用的光柵部件都必需經過特殊設計，包括耐高溫——真空腔需要加熱到100°C或以上以縮短抽真空和獲取較高等級的真空度所需要的時間;高潔凈度——光柵組件需要特殊包裝和運輸，因為組件上任何污染物如機油， 油脂，甚至指紋在真空中都會釋出氣體，影響直空度;降低整體氣體量釋出——讀數頭電路板、黏膠或漆料中含有的塑料(含揮發性溶劑)，在真空中都會釋出氣體，不僅導致所釋出細小顆粒或灰塵對加工品造成損壞，而且會導致真空室中的壓力明顯上升。

　　精密平臺用于 AOI 設備

　　2 TONiC UHV超高真空兼容光柵

　　VAD主要為客戶開發客制化的精密運動平臺，當中包括提供給需要在真空環境下工作的制程設備。目前VAD大部份平臺型號均采用雷尼紹TONiC系列光柵系統，視乎精度要求配置不同種類的柵尺。VAD總裁Song, Baek-Kyun先生說道：“VAD一般平臺型號配置RTLC系列鋼帶柵尺，如果涉及真空應用、像顯示面板AOI檢測設備或半導體制程設備等，我們會配置更高精度的RELM系列柵尺，配置兼容真空的TONiC讀數頭，連接到位于真空腔外的接口。另外我們開發用于半導體EUV光刻機的膜板檢測設備，由于精度要求達到ppm等級，需要采用雷尼紹高端的RLE系列激光尺定位系統，激光發射頭安裝在XY平臺上，而雷尼紹是市場上少數可以提供性能穩定的激光尺之一。”

　　雷尼紹TONiC UHV超高真空兼容光柵系列，從讀數頭、電纜到柵尺都是必需經過專門設計，真空壓力高達10- 10 Torr，讀數頭配置RFI屏敝線纜，其基本工作原理，規格性能與我們在大氣壓下使用的標準型TONiC型號無異，但是UHV光柵的讀數頭在設計上消除了氣密孔，并且由高潔凈的真空兼容材料和粘合劑特制而成，以避免對加工產品質量造成損壞。而雷尼紹直空型光柵也獲得獨立的專業檢驗機構鑒定，包括殘留氣體分析(RGA)光譜測試，在整個生產過程中確保在清潔的條件下進行，并有專門設計的包裝運輸以避免污染。

　　3 近乎零的熱膨脹系數柵尺

　　TONiC是雷尼紹最多樣的光柵型號之一，可搭配多款不同特性的柵尺，包括適合在真空環境應用。Song, Baek- Kyun先生解釋他們選擇柵尺的準則：“我們部份高端機型， 采用了RELM系列柵尺，主要看中它近乎零的熱膨脹系數， 以確保定位精度在溫差范圍變化大的環境下得以保持，要知道真空腔的溫差可達100 °C。雷尼紹的光柵產品在市場上都有良好的口碑，而TONiC系列更是在高端設備上經常看到它的應用，早已得到市場廣泛認可。另外雷尼紹的售后服務做得很到位，定期為我們作產品更新的介紹，最重要的是交貨期也十分準時，使我們不會因等待零件而得失客戶。”

半導體真空平臺

TONiC UHV 光柵系統

真空平臺配置 RLE 激光尺系統

XL-80 激光干涉儀檢測精密直線平臺

　　雷尼紹RELM是一款20 μm柵距柵尺，在1 m長度內精度高達±1 μm，以堅固的雷尼紹專利材料ZeroMet制成，其熱膨脹系數僅為0.75±0.35 μm/m/°C(20 °C時)，柵尺可利用背面自帶的不干膠帶進行安裝，同時也支持機械安裝方式以避免不干膠在真空中釋出氣體。

　　Song, Baek-Kyun先生繼續說：“我們看好未來真空應用設備的市場需求，尤其是半導體和顯示面板等精密工業制程。目前VAD正在開發更多相關的制程平臺。在質量管控方面，我們正在采用雷尼紹XL-80系列激光干涉儀對設備出廠前進行精度檢測，大大增加了客戶對我們的設備性能表現的信心。”