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Intel宣布18A工藝制程進入風險試產階段:兩大絕技全球首次

時間:2025-04-03

來源:21ic電子網

導語:4月2日消息,近日舉辦的Intel Vision 2025大會上,Intel正式宣布其Intel 18A工藝制程技術已進入風險生產階段。

  Intel代工服務副總裁 Kevin O'Buckley在Intel即將全面完成其“四年五個節點(5N4Y)” 計劃之際宣布了這一消息。

  該計劃最初由前CEO帕特·基辛格(Pat Gelsinger)所規劃,是該公司預計從競爭對手臺積電手中奪回半導體王位的一部分。

  Kevin O'Buckley表示,風險試產雖然聽起來很可怕,但實際上是一個產業的標準術語。 風險試產的重要性在于我們已經將技術發展到了可以量產的程度。

  他還強調,Intel已經生產了大量Intel 18A測試芯片。 相較之下,風險試產包括將完整的芯片設計晶圓投少量生產,再通過調整其制造流程,并在實際生產運作中驗證節點和制程設計套件(PDK)。據悉,Intel將在2025年下半年擴大Intel 18A的產量。

  31日舉辦的Intel Vision開幕活動中,Intel新任CEO陳立武宣布,18A工藝技術仍按計劃進行,接近第一批外部流片,預計今年下半年首發該工藝的Panther Lake處理器將進行大批量生產。

  據悉,Intel的下一代面向移動端筆記本的Panther Lake將于2025年下半年發布(預計命名為酷睿Ultra 300系列)。

  公開資料顯示,Intel “四年五個節點” 計劃是該公司在2021年7月提出的半導體制造戰略,目的是通過四年時間(2021-2025 年)推出五個制程節點,重塑其在先進制程領域的領先地位。

  2010年代后期,Intel在10nm/7nm節點遭遇多次延遲,而臺積電、三星通過EUV技術快速推進3nm/2nm制程,導致Intel在移動端和服務器市場份額被蠶食。

  2021年帕特?基辛格接任CEO后,提出 “集成設備制造商(IDM)2.0” 戰略,強調自主制造能力與代工服務并重。“四年五個節點” 計劃成為IDM 2.0的核心載體,目標是到2025年通過五個節點實現制程反超。

  為更準確反映性能與能效提升,Intel放棄傳統的nm命名法,改用Intel 7/4/3/20A/18A的新命名體系。20A工藝等效2nm級,18A則等效于1.8nm級。

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