是的，就是那個芯片制造中最最最核心的設備(甚至沒有之一)，全球僅一家公司ASML有能力生產最先進EUV級別，一臺能賣好幾億元、核心技術被美國壟斷的光刻機。
而且，這次俄羅斯的計劃，看起來有點像那么回事——
有人、有錢、有目標。
人，項目由有著蘇聯硅谷中心之稱、以微電子專業見長的俄羅斯莫斯科電子技術學院 (MIET)承接。
錢，首期投資6.7億盧布資金。
目標，挑戰當前最先進的EUV(極紫外)級別。
但即便如此，因為制造光刻機登天之難、以及俄羅斯的資源儲備，網友們對這個消息并不太信：
確定不是個玩笑?!
巧的是，就在這消息放出前一天，俄羅斯最大芯片制造商Mikron被美國制裁。更早之前，俄羅斯為數不多的其他幾家芯片廠也已經全方位被制裁。
所以現在的俄羅斯芯片，到底什么水平?真的能有底氣搞出先進制程光刻機嗎?
無掩膜X射線光刻機?
我們先來看看計劃本身的難度如何。
據俄媒報道，俄羅斯工貿部委托MIET開發“一種無掩膜X射線光刻機”，跟日常我們提到的EUV光刻機還有點不同。
首先的不同在于光源的選擇。
一種是極紫外光線，波長在13.5nm;而X射線波長介于0.01nm到10nm之間。
按照現有的常見思路，光刻機是特定波長的光透過用來放大的掩膜，再通過透鏡的縮小，將集成電路圖精確“投影”在硅片上。
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