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PLC光無源器件技術的現狀

時間:2018-02-28 10:23:24來源:網絡轉載

導語:?平面光波導PLC是英文Planar Lightwave Circuit的縮寫,是平面光波導技術。早在幾年前,平面光波導技術就能夠使光子在晶圓中傳輸,并已在WDM系統中廣泛應用,主要是陣列波導光柵(AWG)復用/解復用模塊。

平面光波導PLC是英文PlanarLightwaveCircuit的縮寫,是平面光波導技術。早在幾年前,平面光波導技術就能夠使光子在晶圓中傳輸,并已在WDM系統中廣泛應用,主要是陣列波導光柵(AWG)復用/解復用模塊。近日,河南仕佳光子科技有限公司安俊明博士發表了《PLC光無源器件的現狀及展望》,針對PLC光無源器件的技術現狀作了闡述。

PLC光無源器件技術的第一類

第一類是波分復用器-平面光波導器件,其中又分為刻蝕衍射光柵EDG、微環諧振器解復用器、陣列波導光柵AWG和光子晶體解復用器這幾大類。

安博士還介紹了AWG的工作原理,其中AWG芯片是主干網、數據中心、光互連的關鍵芯片。不同材料系的AWG性能參數也不同,其中二氧化硅波導的折射率差為0.75%,波導尺寸為6mm′6mm,彎曲半徑為5mm,40通道芯片尺寸為45mm′20mm,最大的優點是,單獨使用的損耗低;SOI波導的折射率差為40%,波導尺寸為500nm′200nm,彎曲半徑為5mm;16通道芯片尺寸為580mm′170mm,屬于集成使用,亞微米加工,因此耦合難度大;InGaAsP/InP波導的尺寸為2.5mm′0.5mm,彎曲半徑為500mm,屬于集成使用,損耗稍高,但是價格貴。

硅基二氧化硅AWG需要克服三大難點:均勻的材料生長、相位控制以減少串擾及退火應力補償,其最大通道數高達512通道。

Si納米線波導AWG的波導尺寸在300nm-500nm,Ghent大學制備出了8通道、400GHz硅納米線AWG,尺寸僅為200mm′350mm,器件插損僅-1.1dB,串擾為-25dB。

硅納米線AWG關鍵工藝在于電子束曝光或深紫外曝光和ICP干法刻蝕,需要克服三大難點:EB光刻密集納米線波導均勻性、EB寫場拼結問題(斷開或錯位)及EB光刻、ICP刻蝕側壁光滑性。

64通道、50GHzInPAWG的禁帶為1.05mm,GaInAsP為0.5mm厚,上面覆蓋1.5mm厚的InP。深脊型波導寬度為2.55mm,刻蝕深度為4.5mm。NTT采用深脊型結構,實現偏振無關,其尺寸為3.6mm′7.0mm;輸入/輸出波導展寬為4mm;輸出波導間隔為25mm;陣列波導彎曲半徑為500mm;輸入/輸出波導彎曲半徑為250mm;插損在14.4-16.4dB間,串擾小于-20dB。

PLC光無源器件技術的第二類

第二類為PLC光分路器,屬于光纖到戶的核心光子器件。PLC平面波導型光分路器采用高度集成的制備技術,分路數最多達128路,采用光刻、生長和干法刻蝕工藝,在石英襯底上形成掩埋光波導,實現光功率分配,是光分路器生產的最佳技術。目前掌握這種技術的公司,國外有NTT、AiDi、HitachiCable、Wooriro、PPI、Fi-Ra,Neon、Corecross、QNIX、Enablence。還有一種采用玻璃基離子交換制備技術,該技術的工藝簡單、設備投資少,國外有法國的TeemPhotonics公司和以色列ColorChip公司,國內曾有報道浙江大學也掌握了該技術。

目前,PLC光分路器晶圓制備工藝流程分6大步驟共19個工序。依次為:芯區生長-退火、生長硬掩膜、光刻(涂膠、前烘、曝光、顯影、后烘)、刻蝕硬掩膜、去光刻膠、刻蝕芯區、去硬掩膜、清洗、生長上包層、退火(重復多次)。

PLC光無源器件技術的第三類

第三種類型為無源與有源功能器件混合集成,有AWG與可調諧衰減器(VOA)集成、AWG與熱光開關集成的光上下路器(OADM)這兩種集成方式。

二氧化硅平臺混合集成有LD倒裝和PD側面貼裝兩種方式。而封裝模塊-片上倒裝結構屬于SOI平臺混合集成,有LD倒裝和PD表面貼裝兩道工序,比二氧化硅平臺少一個工序。

混合集成工藝-LD倒裝焊采用兩側臺階標記的方式,SOI平臺混合集成LD倒裝

混合集成工藝-PD表面貼裝,采用面探測器,NTT以前用波導型探測器。相比較兩種探測器,面探測器對準容差大,簡化了工藝。

PLC光無源器件技術的第四類

第四種類型為SOI納米線AWG與Ge探測器單片集成,屬于硅基器件混合、單片集成。

PLC光無源器件技術的第五類

第五種類型為InP基單片集成(PIC),其中Infinera公司是全球PIC集成芯片代表。InP基單片集成KeyInnovationPIC是技術上的創新,屬于有源光子的集成,具有空間小、能耗低、可靠性高的特點,能夠實現數字帶寬,帶來部署和管理的靈活性。

目前光子集成實現了傳送IP化,單蝕刻,大規模InP光子集成、每芯片100Gb/sWDM系統容量、一對PIC集成了62個分離Tx&Rx

InfineraInP基集成實現了光纖耦合次數減少30倍,空間占用減少3倍,并且功率消耗減少50%,相對而言,優勢明顯。

目前,國內光通信產業鏈在系統集成這一環節實力雄厚,其中華為、中興、峰火均已躍居世界前列。但是不可否認的是,我國在上游芯片這一塊的技術比較弱,只有低端有源可以自產,高端芯片全部依賴進口。國內在模塊這一環節的實力算是比較強,以光迅昂納等為代表,總體而方屬于經組裝為主的封裝大國。眾所周知,光通信產業鏈的基礎在于芯片,只有掌握了高端芯片集成技術,整個產業鏈才得以很好的延伸下去。

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