

小型離子濺射儀ETD-900
企業信息
ETD-900 型離子濺射儀外觀亮麗做工精致,旋鈕式定時器檔位清晰,手感舒適;特殊定制的真空指示和電流指示表頭沉穩大氣,具有歐洲典雅風范;前面板上的微泄漏氣閥門可以連接多種氣體;調節濺射電流大小,成膜速度快,質量好;功能控制和定時皆由CPU調度,使用范圍廣。工作時結合內部自動控制電路很容易控制真空室壓強、電離電流及選擇所需的電離氣體,獲得最佳鍍膜效果。 配有高位定性的飛躍真空泵。
參數
濺射氣體 | 濺射靶材 | 濺射電流 | 濺射速率 | 樣品倉尺寸 | 樣品臺尺寸 | 工作電壓 |
根據實驗目的可添加氬氣,氮氣等多種氣體。 | 標配靶材為金靶,厚度為50mm*0.1mm。也可根據實際情況配備銀靶、鉑靶等。 |
最大電流 50mA,最大工作電流30mA |
優于40nm/min |
直徑160mm,高120mm |
樣品臺尺寸可安裝直徑50mm和直徑70mm的樣品臺,也可根據自身要求定制樣品臺 |
220V (可做110V), 50HZ |
需要鍍膜的樣品
主要包括生物樣品,塑料樣品等。S EM中的電子束具有較高能量,在與樣品的相互作用過程中,它以熱的形式將部分能量傳遞給樣品。如果樣品是對電子束敏感的材料,那這種相互作用會破壞部分甚至整個樣品結構。這種情況下,用一種非電子束敏感材料制備的表面鍍層就可以起到保護層的作用,防止此類損傷;由于樣品不導電,其表面帶有“電子陷阱”,這種表面上的電子積累被稱為“充電”。為了消除荷電效應,可在樣品表面鍍一層金屬導電層,鍍層作為一個導電通道,將充電電子從材料表面轉移走,消除荷電效應。在掃描電鏡成像時,濺射材料增加信噪比,從而獲得更好的成像質量。非導電材料實驗電極制作觀察導

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ETD-800C
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