2023年第二屆第三代半導體材料技術與市場研討會由半導體在線主辦，本屆會議于2023年3月30-31日在中國-蘇州合景萬怡酒店召開。

第二屆第三代半導體材料技術與市場研討會提供協同創新的高質量交流平臺，推動國內第三代半導體材料的學術研究、技術進步和產業發展，展示業內精英企業，凝聚行業發展共識。

在此次會議，鵬城半導體技術（深圳）有限公司（簡稱：鵬城半導體）將帶來納米技術及高端制造設備跟大家見面，其中包括多功能磁控濺射解決方案、熱絲CVD金剛石制備設備、分子束外延系統MBE、等離體增強型化學氣相沉積PECVD、高真空電子束蒸鍍儀等。

多功能磁控濺射是用磁控濺射的方法，制備金屬、合金、化合物、半導體、陶瓷、介質復合膜及其它化學反應膜等；適用于鍍制各種單層膜、多層膜、摻雜膜系及合金膜；可鍍制磁性材料和非磁性材料。

熱絲CVD金剛石制備設備：研發設計制造了熱絲CVD金剛石設備，分為實驗型設備和生產型設備兩類。

設備主要用于微米晶和納米晶金剛石薄膜、導電金剛石薄膜、硬質合金基金剛石涂層刀具、陶瓷軸承內孔鍍金剛石薄膜等。

可以制造大尺寸金剛石多晶晶圓片，用于大功率器件、高頻器件及大功率激光器的散熱熱沉；可用于生產制造防腐耐磨硬質涂層；環保領域污水處理用的耐腐蝕金剛石導電電極等。

可用于平面工件的金剛石薄膜制備，也可用于刀具表面或其它不規則表面的金剛石硬質涂層制備。

分子束外延系統MBE：可以在某些襯底上實現外延生長工藝，實現分子自組裝、超晶格、量子阱、一維納米線等。可以進行第二代半導體和第三代半導體的工藝驗證和外延片的生長制造。

分子束外延系統MBE在薄膜外延生長時具有超高的真空環境，是在理想的環境下進行薄膜外延生長，它可以排除在薄膜生長時的各種干擾因素，得到理想的高精度薄膜。

我公司設計制造的分子束外延薄膜生長實驗設備，分實驗型和生產型兩種 ，配置合理，結構簡單，操作方便，技術先進，性能可靠，用途多，實用性強，性價格比高，可供各大學的實驗室及科研機構作為分子束外延方面的教學實驗、科學研究及工藝實驗之用。生產型MBE可用于小批量外延片的制備。

等離體增強型化學氣相沉積PECVD：主要用于在潔凈真空環境下進行氮化硅和氧化硅的薄膜生長；采用單頻或雙頻等離子增強型化學氣相沉積技術，是沉積高質量的氮化硅、氧化硅等薄膜的理想工藝設備。

高真空電子束蒸鍍儀：是在高真空條件下，采用電子束轟擊材料加熱蒸發的方法，在襯底上鍍制各種金屬、氧化物、導電薄膜、光學薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、超硬膜等；可鍍制混合物單層膜、多層膜或摻雜膜；可鍍各種高熔點材料。

可用于生產、科學實驗及教學，可根據用戶要求專門訂制。

可根據用戶使用要求，選配石英晶體膜厚自動控制及光學膜厚自動控制兩種方式, 通過PLC 和工控機聯合實現對整個鍍膜過程的全程自動控制, 包括真空系統、烘烤系統、蒸發過程和膜層厚度的監控功能等，從而提高了工作效率和保證產品質量的一致性和穩定性。

鵬城半導體核心業務是微納技術與高端精密制造，具體應用領域包括半導體材料、半導體工藝和半導體裝備的研發設計和生產制造。在本屆會議中所呈現的方案及設備，將有工作人員給您詳細講解，希望可以在線下和大家產生更多的技術交流及思想碰撞。

3月30日-31日，歡迎大家到會議現場打卡體驗

期待與您相遇！

我們不見不散~