國人對于芯片制造可能更多是光刻機這種設備，然而芯片制造是一條相當長的產業鏈，業界人士指出芯片制造產業鏈包括了八大設備和八大材料，值得高興的是國產芯片制造產業鏈共同努力下已一步步實現國產化。

　　在芯片設備方面進展較為迅速，此前業界人士指出國產芯片設備在清洗機、涂膠顯影機、離子注入機等設備方面都已達到14nm級別，目前正在研發7nm、5nm的設備，與世界先進水平的差距也比較小了，并且正處于加速追趕中，與全球先進水平的差距在快速縮短。

　　其中國產芯片制造設備當中，刻蝕機是進展最快的，國產刻蝕機已做到5nm，這也是國產設備中最先進的部分，刻蝕機已獲得臺積電的認可并被它采用，遺憾的是由于種種原因，技術最先進的國產刻蝕機目前只有臺積電采用，三星、Intel等考慮種種因素不愿采用中國產的設備，因此國產刻蝕機在全球市場占有的份額還比較低。

　　讓人遺憾的恰恰是廣受關注的光刻機拖了后腿，據稱國產光刻機最先進的也只能達到28nm工藝，這已成為中國芯片制造產業鏈最薄弱的環節，原因在于光刻機是諸多設備當中最復雜的，畢竟ASML的光刻機也是集中歐美日等國先進元件的精華。不過國產光刻機企業上海微電子連續斬獲訂單，正為它帶來源源不斷的收入，可望幫助它加速技術研發，在光刻機技術方面加速追趕ASML。

　　芯片制造材料可能被國人所忽視，然而材料其實對于芯片制造非常重要，此前三星就因為被日本卡主了光刻膠等材料一度陷入停產恐慌，為此韓國集中全國科研技術研發光刻膠等材料，迅速解決問題，擺脫了日本的制約。

　　韓國用兩三年時間研發出自己的芯片制造材料，說明芯片制造材料也不是美國和日本制約其他國家發展芯片制造的重要障礙，只要集中力量可以很快突破。

　　多氟多迅速量產高純電子化學品材料，說明中國在材料研發方面確實也有厚實的基礎，正因為我們所擁有的扎實基礎，得以迅速研發相關的芯片制造材料，可以預期其他與芯片制造的材料也將陸續解決。

　　中國對芯片制造的重視主要還是近幾年，而這幾年時間確實也在芯片制造產業鏈方面加速完善，可以預期只要再花幾年時間，國產芯片制造產業鏈解決了光刻機這個瓶頸之后，國產芯片制造完全自主化就將實現，到那時候誰也無法阻止中國芯片制造的發展。

　　目前中國已成為全球第三大芯片制造產能大國，芯片制造工藝也已推進至14nm，7nm工藝在中芯國際的推動下也在加速量產，業界人士指出一旦中芯國際的7nm工藝量產，那么國內對芯片的需求將有九成得以滿足。

　　芯片制造產業鏈的成型，代表著國產芯片的最后一個環節即將攻克，這是中國制造的巨大成功，體現了只要堅持艱苦奮斗，誰也擋不住中國制造前進的腳步，自主創新將成為現實。