時間:2013-08-13 16:33:27來æºï¼šå‚³å‹•ç¶²
åœ¨å‚³çµ±çš„å¤§è¦æ¨¡ASICå’ŒSoCè¨è¨ˆä¸ï¼ŒèŠ¯ç‰‡çš„ç‰©ç†ç©ºé–“大致å¯åˆ†ç‚ºä»¥ä¸‹ä¸‰éƒ¨åˆ†ï¼š
1.用于新的定制é‚輯
2.用于å¯å¾©ç”¨é‚輯(第三方IP或傳統的內部IP)
3.用于嵌入å¼å˜å„²
如圖1所示,當å„å» å•†ç‚ºèŠ¯ç‰‡ç”¢å“çš„å¸‚å ´å·®ç•°åŒ–ï¼ˆç”¨äºŽ802.11n的無線DSP+RFã€è—牙和其他新興無線標準)而繼續開發å„è‡ªç¨æœ‰çš„自定義模塊,第三方IP(USBæ ¸ã€ä»¥å¤ªç¶²æ ¸ä»¥åŠCPU/å¾®æŽ§åˆ¶å™¨æ ¸ï¼‰å ç”¨çš„èŠ¯ç‰‡ç©ºé–“å¹¾ä¹Žä¸€æˆæœªè®Šæ™‚,嵌入å¼å˜å„²å™¨æ‰€å 比例å»é¡¯è‘—上å‡ã€‚
圖1:ç•¶å‰çš„ASICå’ŒSoCè¨è¨ˆä¸ï¼ŒåµŒå…¥å¼å˜å„²å™¨åœ¨ç¸½å¯ç”¨èŠ¯ç‰‡ç©ºé–“ä¸æ‰€å æ¯”ä¾‹é€æ¼¸å‡é«˜
SemicoResearch2013年發布的數據顯示,大多數SoCå’ŒASICè¨è¨ˆä¸ï¼Œå„å¼åµŒå…¥å¼å˜å„²å™¨å 用的芯片空間已超éŽ50%.æ¤å¤–ï¼Œè¨±å¤šå¤§è¦æ¨¡SoC嵌入å¼å˜å„²å™¨çš„ä½¿ç”¨ç›®çš„å’Œä¸»è¦æ€§èƒ½ä¹Ÿå„ä¸ç›¸åŒï¼Œå¦‚圖2所示。
圖2:å¤šæ ¸SoCçš„å„種嵌入å¼å˜å„²å™¨IP
由于å¯ä»¥æ ¹æ“šè¨è¨ˆç›®çš„,通éŽé‡‡ç”¨æ£ç¢ºçš„SoCå˜å„²å™¨é¡žåž‹ä¾†å„ªåŒ–è¨è¨ˆï¼Œå› æ¤ï¼Œå°äºŽè¨è¨ˆå¸«ä¾†èªªï¼Œåˆ©ç”¨å„種å˜å„²å™¨IP具有éžå¸¸é‡è¦çš„æ„ç¾©ã€‚è¨è¨ˆå¸«å¯é€šéŽæ°ç•¶åˆ†é…å„種å˜å„²å™¨IPæ‰€å æ¯”例,實ç¾é€Ÿåº¦ã€åŠŸè€—ã€ç©ºé–“(密度)以åŠéžæ˜“失性ç‰å„ç¨®æ€§èƒ½åƒæ•¸çš„優化。
嵌入å¼å˜å„²å™¨çš„主è¦è¨è¨ˆæ¨™æº–
å„種應用è¨è¨ˆä¸ï¼Œæœ€ä½³å˜å„²å™¨IP的確定主è¦åŸºäºŽä»¥ä¸‹5å€‹é©…å‹•å› ç´ ï¼Œå¦‚åœ–3所示:
1.功率
2.速度
3.å¯é 性/良率
4.密度
5.æˆæœ¬
圖3:確定å˜å„²å™¨IP的主è¦å› ç´
通éŽå°ä¸Šè¿°å„性能決定è¦ç´ 進行權衡,å¯å¾—到最優解決方案。許多情æ³ä¸‹ï¼Œå˜å„²å™¨ç·¨è¯å™¨å¯æ ¹æ“šè¼¸å…¥å˜å„²å™¨è¨è¨ˆç”Ÿæˆæµç¨‹ä¸çš„å„ç¨®é©…å‹•å› ç´ ï¼Œè‡ªå‹•ç”Ÿæˆæ€§èƒ½ç¶“éŽå„ªåŒ–的特定å˜å„²å™¨IP.åŒæ¨£é‡è¦çš„æ˜¯ï¼Œå˜å„²å™¨IPçš„æ”¯æŒæ€§çµæ§‹æ‡‰é©ç”¨å¯é çš„é©—è‰æ–¹æ³•,且生æˆçš„IP良率最高。最åŽï¼Œç‚ºå¯¦ç¾ç”¢é‡èˆ‡è³ªé‡çš„æœ€å„ªåŒ–,å˜å„²å™¨ç·¨è¯å™¨é‚„應直接生æˆGDSII,ç„¡éœ€äººå·¥å¹²é æˆ–調整。其他è¦ç´ 還包括良好的è¨è¨ˆä½™é‡æŽ§åˆ¶ã€å°è‡ªå‹•測試圖形å‘é‡ç”Ÿæˆå’Œå…§å»ºè‡ªæ¸¬è©¦ï¼ˆBIST)的支æŒã€‚æ¤å¤–,最好具備通éŽBIST的單æ¥åŸ·è¡Œé€²è¡Œç¡…片調試的功能。
功率
強大的編è¯å™¨åŠ ä¹‹å…ˆé€²çš„é›»è·¯è¨è¨ˆï¼Œå¯æ¥µå¤§åœ°é™ä½Žå‹•態功耗(CV2f),并å¯é€šéŽåˆ©ç”¨å¤šèŠ¯ç‰‡çµ„ã€å…ˆé€²çš„計時方法ã€åç½®æ–¹æ³•ã€æ™¶é«”管Leffç‰¹å¾æŽ§åˆ¶ä»¥åŠå¤šé‡ä¾›æ‡‰é›»å£“(VTï¼‰å„ªåŒ–ç‰æŠ€è¡“æœ€å¤§é™åº¦åœ°é™ä½Žæ³„露功率。è¨è¨ˆå¸«å¯ç¶œåˆé‹ç”¨é€™äº›å˜å„²å™¨æŠ€è¡“,通éŽé›»å£“å’Œé »çŽ‡çš„èª¿æ•´ä»¥åŠå¤šé›»æºåŸŸçš„åˆ©ç”¨ï¼Œå¾—åˆ°æœ€ç†æƒ³çš„çµæžœã€‚
速度
為ç²å¾—一æµçš„å˜å„²å™¨æ€§èƒ½ï¼Œå…ˆé€²è¨è¨ˆæŠ€è¡“的充分利用至關é‡è¦ã€‚è¨è¨ˆå¸«å¯åˆ©ç”¨å˜å„²å™¨ç·¨è¯å™¨å°é€Ÿåº¦ï¼ˆæ¯”如å˜å–時間或循環時間)ã€ç©ºé–“ã€å‹•態功耗以åŠéœæ…‹åŠŸè€—ï¼ˆæ³„éœ²åŠŸçŽ‡ï¼‰ç‰å› ç´ é€²è¡Œæ¬Šè¡¡ï¼Œå¾—åˆ°æ‰€éœ€è¦çš„æœ€å„ªçµ„åˆã€‚在通éŽå¤šç¨®VT技術ã€å¤šèŠ¯ç‰‡çµ„ä»¥åŠå¤šç¨®å˜å„²å–®å…ƒç‰çš„ç¶œåˆé¸ç”¨ï¼Œæ”¹é€²å˜å„²å™¨å¡Šçš„åŒæ™‚,輔以節能è¨è¨ˆæŠ€è¡“ï¼ŒåŒæ¨£å¯ä»¥ç²å¾—較高速度。
å¯é 性與良率
晶體管體ç©å’Œèƒ½è€—的大幅下é™ï¼Œé›–然使噪è²å®¹é™æ˜Žé¡¯æ¸›å°ï¼Œä½†ä¹Ÿå°æ¥µæ·±äºžå¾®ç±³èŠ¯ç‰‡çš„å¯é æ€§å¸¶ä¾†äº†å½±éŸ¿ã€‚å› æ¤ï¼Œç‚ºæé«˜è‰¯çŽ‡ï¼Œæ”¹å–„é‹è¡Œçš„å¯é 性,需采用ECC和冗余技術。
由于今天SoCçš„ä½å…ƒæ•¸å·²å分é¾å¤§ï¼Œå› æ¤ï¼ŒåµŒå…¥å¼å˜å„²å™¨ä¾¿æˆç‚ºäº†æ±ºå®šSoC良率的最é‡è¦å› ç´ ã€‚åœ¨æé«˜å˜å„²å™¨è‰¯çŽ‡æ–¹é¢ï¼Œç”±äºŽå¯æ¸›å°‘批é‡ç”Ÿç”¢æ™‚é–“ï¼ŒæŽ§åˆ¶æ¸¬è©¦èˆ‡ä¿®å¾©æˆæœ¬ï¼Œå› æ¤å°ˆæœ‰æ¸¬è©¦èˆ‡ä¿®å¾©è³‡æºå…·æœ‰é‡è¦ä½œç”¨ã€‚采用一次å¯ç·¨ç¨‹å˜å„²æŠ€è¡“åˆ¶é€ çš„å˜å„²å™¨IP,åœ¨èŠ¯ç‰‡åˆ¶é€ å®ŒæˆåŽï¼Œç™¼ç”Ÿå˜å„²ä¿¡æ¯å¤±æ•ˆæ™‚,其內置自修復功能便å¯å°å˜å„²å™¨é™£åˆ—é€²è¡Œä¿®å¾©ã€‚ç†æƒ³æƒ…æ³ä¸‹ï¼Œç‚ºåœ¨ç”Ÿç”¢æ¸¬è©¦éŽç¨‹ä¸ï¼Œå¿«é€Ÿé€²è¡Œä¿®å¾©ç·¨ç¨‹ï¼Œå˜å„²å™¨ç·¨è¯å™¨çš„修復功能需與硅片測試工具緊密集æˆã€‚
å°äºŽè¨è¨ˆå¸«ä¾†èªªæ¥µå…¶é‡è¦çš„æ˜¯ï¼Œå¯æ ¹æ“šéœ€è¦é¸æ“‡ç”±æ™¶åœ“代工伿¥åˆ¶é€ ä½å–®å…ƒï¼Œæˆ–者進行自我è¨è¨ˆã€‚需進行定制è¨è¨ˆæ™‚,與ç†è§£å®šåˆ¶è¨è¨ˆä¸”å¯ç‚ºå„æµç¨‹ç¯€é»žæä¾›ç¡…片數據的嵌入å¼å˜å„²å™¨ä¾›æ‡‰å•†é€²è¡Œåˆä½œï¼Œå…·æœ‰æ¥µå¤§çš„幫助作用。有了先進的è¨è¨ˆæŠ€è¡“,å³ä½¿ä¸éœ€è¦é¡å¤–的掩膜和æµç¨‹ä¿®æ£ï¼Œäº¦å¯æœ€å¤§é™åº¦åœ°æé«˜è‰¯çŽ‡å’Œå¯é 性。
密度
在å˜å„²å™¨IPçš„é¸æ“‡ä¸Šä¸€å€‹é‡è¦çš„è€ƒæ…®å› ç´ æ˜¯ï¼Œèƒ½å¦ç‚ºå„æµç¨‹ç¯€é»žé¸æ“‡ä¸åŒçš„å˜å„²å™¨å¯†åº¦ã€‚先進的å˜å„²å™¨ç·¨è¯å™¨å…許è¨è¨ˆå¸«åœ¨å¯†åº¦èˆ‡é€Ÿåº¦ä¹‹é–“é€²è¡Œæ¬Šè¡¡ï¼Œæ¯”å¦‚ï¼Œæ˜¯é¸æ“‡é«˜å¯†åº¦ï¼ˆHD)ä½å–®å…ƒé‚„æ˜¯é¸æ“‡é«˜é›»æµä½å–®å…ƒã€‚
è¨è¨ˆå¸«é‚„å¯å€ŸåŠ©éˆæ´»çš„列多路復用ç‰åŠŸèƒ½ï¼Œé€šéŽæŽ§åˆ¶å˜å„²å™¨å 用形狀(å¯è®Šå¯¬åº¦ã€å¯è®Šé«˜åº¦ï¼Œæˆ–æ£æ–¹å½¢ï¼‰ï¼Œå„ªåŒ–SoC布局è¦åŠƒï¼Œé€²è€Œæœ€å¤§é™åº¦åœ°æ¸›å°å˜å„²å™¨å°èŠ¯ç‰‡æ•´é«”å¤§å°çš„影響。部分å˜å„²å™¨ç·¨è¯å™¨é‚„支æŒsub-words(ä½å’Œå—節å¯å¯«ï¼‰ã€åŠŸçŽ‡ç¶²æ ¼ç”Ÿæˆç‰åŠŸèƒ½ï¼Œå¯æœ€å¤§é™åº¦åœ°å„ªåŒ–功率輸出。æ¤å¤–ï¼Œéˆæ´»çš„端å£åˆ†é…(一個端å£ç”¨äºŽè®€æˆ–寫,第二個端å£ç”¨äºŽè®€å’Œå¯«ï¼‰äº¦å¯ç¯€çœSRAMã€CAM和寄å˜å™¨æ–‡ä»¶çš„å 用空間。
兩種嵌入å¼å˜å„²å™¨IP架構的密度關系如圖4所示。與6晶體管(6T)ä½å–®å…ƒç›¸æ¯”,ä½å®¹é‡ä¸€å®šæ™‚,單晶體管(1T)ä½å–®å…ƒæœ€å¤šå¯æ¸›å°‘50%的芯片空間。在è¨è¨ˆä¸ï¼Œå°é€Ÿåº¦è¦æ±‚è¼ƒä½Žè€Œå¯†åº¦è¦æ±‚較高時,1T弿ž¶æ§‹æ˜¯è¼ƒç‚ºç†æƒ³çš„鏿“‡ã€‚由于å¯é‡‡ç”¨æ‰¹é‡CMOSæµç¨‹ï¼Œçœå»äº†é¡å¤–çš„æŽ©è†œç’°ç¯€ï¼Œå› è€Œæœ‰ç›ŠäºŽæˆæœ¬å£“縮。在高速應用方é¢ï¼Œè¨è¨ˆå¸«å¯é‡‡ç”¨6T甚至8Tä½å–®å…ƒä¾†æ»¿è¶³å…¶é€Ÿåº¦è¦æ±‚。
圖4:å˜å„²å™¨å¯†åº¦èˆ‡ä¸åŒåµŒå…¥å¼å˜å„²å™¨IP架構的比例關系
æˆæœ¬
å°äºŽSoCASIC來說,為最大é™åº¦å£“ç¸®æˆæœ¬ï¼Œèˆ‡æ¬¡å„ªIP(常稱為“å…è²»IP”)相比,è¨è¨ˆå¸«æ›´æ„¿é¸æ“‡“節çœç©ºé–“”çš„IPåƒæ•¸ã€‚盡管有許多å˜å„²å™¨IPåƒæ•¸å¯ä¾›è¨è¨ˆå¸«å…è²»é¸ç”¨ï¼Œä½†åœ¨ç”¢å“的整體收益性上,å»å¹¶ä¸ç¸½æ˜¯å˜åœ¨ç¶“濟性最好的解決方案。在很多情æ³ä¸‹ï¼Œèˆ‡“å…è²»”å˜å„²å™¨IPç›¸æ¯”ï¼Œé€šéŽæ”¹å–„ç²æ‰¹çš„嵌入å¼å˜å„²å™¨IPçš„å¯†åº¦èˆ‡æ€§èƒ½ä¾†å£“ç¸®åˆ¶é€ æˆæœ¬ï¼Œå…¶æ•ˆæžœæ›´ç‚ºé¡¯è‘—。
在產å“的整個壽命éŽç¨‹ä¸ï¼Œå˜å„²å™¨é«”ç©çš„優化å°é‡ç”¢æˆæœ¬çš„影響如表1所示。本表ä¸ï¼Œå˜å„²å™¨IP所å 用的芯片空間以百分比表示??èµã„Ÿ^èŠ¯ç‰‡æˆæœ¬ã€é‡ç”¢æ•ˆçއ以åŠç”¢å“壽命,計算高密度å˜å„²å™¨çš„æˆæœ¬å£“ç¸®æ•ˆæžœã€‚ç¯€çœçš„IPç©ºé–“æ ¹æ“šåœ–4得出。從圖ä¸å¯ä»¥çœ‹å‡ºï¼Œ1Tå’Œ6Tå˜å„²å™¨çš„å¯†åº¦å¢žé‡æ¯”值約為2:1.
表1:高密度IPèˆ‡æˆæœ¬ç¯€ç´„
嵌入å¼å˜å„²å™¨IPé¸ç”¨æŒ‡å—
為讓您å°å˜å„²å™¨è¨è¨ˆä¸çš„å¯é¸è¦ç´ 有一個了解,ç¾å°‡å¸¶æœ‰éƒ¨åˆ†æœ€å…ˆé€²åŠŸèƒ½çš„æ”¶è²»åµŒå…¥å¼å˜å„²å™¨é¡žåž‹ç¸½çµå¦‚下。
單端å£ï¼ˆ6T)和雙端å£ï¼ˆ8T)SRAMIP
由于這類å˜å„²å™¨æž¶æ§‹å¤§å¤šé©ç”¨äºŽä¸»æµCMOSåˆ¶é€ æµç¨‹ï¼Œç„¡éœ€é¡å¤–çš„æµç¨‹ç’°ç¯€ï¼Œå› æ¤åŸºäºŽå‚³çµ±6Tå˜å„²å–®å…ƒçš„éœæ…‹RAMå˜å„²å™¨å¡Šå·²æˆç‚ºASIC/SoCåˆ¶é€ ä¸çš„主æµã€‚6Tå˜å„²å–®å…ƒé‡‡ç”¨äº†ç¶“éŽå¯¦è¸æª¢é©—çš„ç”±æ™¶åœ“ä»£å·¥å» ç”Ÿç”¢çš„å¯ç”¨äºŽé«˜é€Ÿåº¦ã€ä½ŽåŠŸè€—è¨è¨ˆçš„6T/8Tä½å–®å…ƒï¼Œæ˜¯å¤§è¦æ¨¡ç¨‹åºæˆ–數據å˜å„²å™¨å¡Šçš„ç†æƒ³å™¨ä»¶ã€‚6Tå˜å„²å–®å…ƒå¯ç”¨äºŽå˜å„²èƒ½åŠ›å¾žå¹¾ä½åˆ°å¹¾å…†ä½çš„å˜å„²é™£åˆ—。
æ ¹æ“šè¨è¨ˆå¸«æ˜¯é‡‡ç”¨é‡å°é«˜æ€§èƒ½é‚„是é‡å°ä½ŽåŠŸè€—å„ªåŒ–çš„CMOSæµç¨‹ï¼Œé‡‡ç”¨æ¤ç¨®çµæ§‹çš„å˜å„²é™£åˆ—,經éŽè¨è¨ˆï¼Œå¯æ»¿è¶³å¤šç¨®ä¸åŒçš„æ€§èƒ½éœ€æ±‚。經高性能CMOSæµç¨‹åˆ¶é€ çš„SRAM塊,在功耗得到é™ä½Žçš„åŒæ™‚,在40nmå’Œ28nmç‰é«˜ç´šæµç¨‹ç¯€é»žçš„å˜å–時間å¯é™ä½Žåˆ°1ns以下。隨著æµç¨‹ç¯€é»žçš„æŽ¨é€²ï¼Œå¤–形尺寸的縮å°ï¼Œé‡‡ç”¨å‚³çµ±6Tå˜å„²å–®å…ƒæ§‹å»ºçš„éœæ…‹RAM,其單元尺寸將更å°ï¼Œå˜å–用時也更çŸã€‚
SRAMå˜å„²å–®å…ƒçš„éœæ…‹ç‰¹æ€§ä½¿å…¶å¯ä¿ç•™æœ€å°æ•¸ç›®çš„æ”¯æŒé›»è·¯ï¼Œåªéœ€è¦å°åœ°å€é€²è¡Œè§£ç¢¼ï¼Œå¹¶å‘解碼器ã€å‚³æ„Ÿå’Œè¨ˆæ™‚電路的è¨è¨ˆæä¾›ä¿¡è™Ÿå³å¯ã€‚
單端å£ï¼ˆ6T)和雙端å£ï¼ˆ8T)寄å˜å™¨æ–‡ä»¶IP
å°äºŽå¿«é€Ÿè™•ç†å™¨ç·©å˜å’Œè¼ƒå°çš„å˜å„²å™¨ç·©æ²–(最高約æ¯å€‹å®å¡Š72Kbit)來說,這類寄å˜å™¨æ–‡ä»¶å˜å„²å™¨IP是個ä¸éŒ¯çš„鏿“‡ã€‚寄å˜å™¨åŒæ™‚å…·å‚™å 用空間最å°ã€æ€§èƒ½æœ€å¿«ç‰ç‰¹é»žã€‚
單層å¯ç·¨ç¨‹ROMIP
é€™ç¨®çµæ§‹åŠŸè€—å’Œé€Ÿåº¦å‡ç›¸å°è¼ƒä½Žï¼Œç‰¹åˆ¥é©ç”¨äºŽç©ºé–“有é™çš„微碼的å˜å„²ï¼Œå›ºå®šæ•¸æ“šçš„å˜å„²ï¼Œæˆ–é«”ç©ç©©æ¥éžå¢žçš„æ‡‰ç”¨ç¨‹åºçš„å˜å„²ã€‚這類IP坿”¯æŒå¤šèŠ¯ç‰‡çµ„å’Œä¸åŒé•·å¯¬æ¯”,既縮å°äº†èŠ¯ç‰‡é«”ç©ï¼Œåˆç²å¾—äº†æœ€ä½³é€Ÿåº¦ã€‚ç‚ºåŠ å¿«è¨è¨ˆå‘¨æœŸï¼Œéƒ¨åˆ†IPé‚„æä¾›äº†ç”¨ä»¥é©…å‹•å˜å„²å™¨ç·¨è¯å™¨çš„編程腳本語言。
內容尋å€å˜å„²å™¨IP
ç”±äºŽé€Ÿåº¦æ›´å¿«ï¼Œèƒ½è€—æ›´ä½Žï¼Œä¸”èˆ‡ç”¨äºŽåŸ·è¡Œå¤§é‡æœç´¢ä»»å‹™çš„æ‡‰ç”¨ç¨‹åºçš„算法途徑相比,å 用芯片空間更å°ï¼Œå› æ¤é€™é¡žIP大多作為TCAM(三進制)或BCAM(二進制)IP,用于æœç´¢å¼•擎類應用程åºã€‚通常情æ³ä¸‹ï¼Œæœç´¢å¯åœ¨å–®å€‹æ™‚é˜å‘¨æœŸå…§å®Œæˆã€‚TCAMå’ŒBCAM通常用于包轉發ã€ä»¥å¤ªç¶²åœ°å€éŽæ¿¾ã€è·¯ç”±æŸ¥è©¢ã€å›ºä»¶æœç´¢ã€ä¸»æ©ŸIDæœç´¢ã€å˜å„²å™¨åŽ»è€¦åˆã€ç›®éŒ„壓縮ã€åŒ…分類以åŠå¤šè·¯é«˜é€Ÿç·©å˜æŽ§åˆ¶å™¨ç‰
單晶體管SRAM
é€™ç¨®çµæ§‹é›–然速度有所下é™ï¼Œä½†å¯†åº¦æ¥µé«˜ï¼Œå¯ç”¨äºŽ180nm,160nm,152nm,130nm,110nm,90nm以åŠ65nmæµç¨‹ã€‚尤其é©ç”¨äºŽéœ€è¦å¤§é‡ç‰‡ä¸Šå˜å„²ç©ºé–“--大多大于256Kbit,但ä¸éœ€è¦æ¥µé«˜çš„å˜å–速度的ASIC/SoC程åºï¼Œä»¥åŠç©ºé–“有é™ä¸”å˜å„²å™¨å¡Šå˜åœ¨æ³„露電æµçš„è¨è¨ˆã€‚æœ¬çµæ§‹å¯ç”Ÿæˆèˆ‡SRAM工作原ç†ç›¸ä¼¼çš„å˜å„²å™¨é™£åˆ—,但其基礎為單晶體管/單電容(1T)å˜å„²å–®å…ƒï¼ˆå¦‚å‹•æ…‹RAM所用)。
由于采用了6Tå˜å„²é™£åˆ—ï¼Œå› æ¤åœ¨ç›¸åŒçš„芯片空間上,單晶體管SRAM陣列的å˜å„²èƒ½åŠ›æ›´å¼·ï¼Œä½†éœ€è¦åœ¨ç³»çµ±æŽ§åˆ¶å™¨å’Œé‚輯層é¢ï¼Œäº†è§£å˜å„²å™¨çš„動態特性,并在刷新控制的æä¾›ä¸Šç™¼æ®ç©æ¥µä½œç”¨ã€‚在æŸäº›æƒ…æ³ä¸‹ï¼Œç‚ºä½¿å…¶çœ‹èµ·ä¾†åƒç°¡å–®æ˜“用的SRAM陣列,也å¯èƒ½å°DRAMåŠå…¶è‡ªèº«æŽ§åˆ¶å™¨é€²è¡Œé›†æˆã€‚通éŽé«˜å¯†åº¦1Tå®å¡Šèˆ‡æŸäº›æä¾›åˆ·æ–°ä¿¡è™Ÿçš„æ”¯æŒé‚輯的整åˆï¼Œå¯ä½¿å˜å„²å–®å…ƒçš„å‹•æ…‹ç‰¹æ€§é€æ˜ŽåŒ–,è¨è¨ˆå¸«å¯åœ¨å¯¦æ–½ASICå’ŒSoC解決方案時,將å˜å„²å™¨å¡Šä½œç‚ºéœæ…‹RAMå°å¾…。
作為å¯ç²å¾—許å¯IP,1TSRAMå¯å¾žæ™¶åœ“ä»£å·¥å» ç²å¾—。但是,由于æŸäº›æ¤é¡žIP需è¦é¡å¤–掩膜層(除標準CMOSå±¤å¤–ï¼‰ï¼Œå¢žåŠ äº†æ™¶åœ“æˆæœ¬ï¼Œå› 而é™åˆ¶äº†æ™¶åœ“ä»£å·¥å» çš„å¯é¸åˆ¶é€ 空間。為使é¡å¤–çš„æ™¶åœ“åŠ å·¥æˆæœ¬ç‰©æœ‰æ‰€å€¼ï¼ŒèŠ¯ç‰‡ä¸Šé‡‡ç”¨çš„ç¸½DRAM陣列大å°ï¼Œé€šå¸¸å¿…é ˆå¤§äºŽ50%的芯片空間。大部分å¯ç”¨DRAMå®å‡ç‚ºç¡¬å®å–®å…ƒï¼Œå¤§å°ã€é•·å¯¬æ¯”ä»¥åŠæŽ¥å£çš„å¯é¸ç©ºé–“有é™ã€‚
有一種單晶體管SRAM的特殊變體,采用了å¯é€šéŽæ¨™æº–批é‡CMOSæµç¨‹åˆ¶é€ çš„æž¶æ§‹ï¼Œå› æ¤ï¼Œå®ƒæ—¢ç„¡éœ€ä¿®æ”¹æŽ©è†œï¼Œä¹Ÿç„¡éœ€é¡å¤–çš„æµç¨‹æ¥é©Ÿã€‚æ¤é¡žIPå®å¡Šå…·æœ‰æ›´é«˜çš„æˆæœ¬æ•ˆç›Šï¼ˆæµç¨‹æˆæœ¬å¯ç¯€çœ15-20%),并且å¯åœ¨ä»»ä½•å·¥å» é€²è¡ŒåŠ å·¥ï¼Œä¹Ÿå¯å‡ºäºŽæˆæœ¬æˆ–生產能力ç‰åŽŸå› ï¼Œæ”¹æ›åŠ å·¥å·¥å» ã€‚é€™ç¨®è§£æ±ºæ–¹æ¡ˆæä¾›äº†å¤šç¨®å°ºå¯¸ã€é•·å¯¬æ¯”和接å£ï¼Œå¯é€ä¸€æŒ‡å®šç›¸æ‡‰çš„å˜å„²å™¨ç·¨è¯å™¨ã€‚å°äºŽç³»çµ±çš„其余部分來說,生æˆçš„å˜å„²å™¨å¡ŠæŽ¥å£çœ‹èµ·ä¾†å°±åƒéœæ…‹RAM,但其密度(ä½/單元空間)是基于6Tå˜å„²å–®å…ƒçš„å˜å„²å™¨é™£åˆ—çš„2å€ï¼ˆç¶“éŽå°ä½œç‚ºç©ºé–“計算一部分的全部支æŒé›»è·¯çš„å¹³å‡ï¼‰ã€‚å°äºŽå¤§åž‹å˜å„²å™¨é™£åˆ—來說,支æŒé›»è·¯æ‰€éœ€å…¨éƒ¨ç©ºé–“所å 百分比較å°ï¼Œå˜å„²å™¨å¡Šçš„空間利用率也更高。
å˜å„²å™¨ç·¨è¯å™¨å·¥å…·
嵌入å¼å˜å„²å™¨ç·¨è¯å™¨çš„è·è²¬æ˜¯ï¼Œé‡å°ç‰¹å®šå˜å„²å™¨æ‡‰ç”¨ç¨‹åºçš„確切需求,é‡èº«å®šåšåŸºæœ¬çš„IPå˜å„²å™¨å®å–®å…ƒã€‚è‹¥é©ç”¨èŒƒåœè¶³å¤ 廣,編è¯å™¨å¯å…許è¨è¨ˆå¸«é¸æ“‡æœ€å„ªæž¶æ§‹ï¼Œè‡ªå‹•生æˆå˜å„²å™¨é™£åˆ—ï¼Œå¹¶ç²¾ç¢ºç¢ºå®šå„ªåŒ–ç¨‹åºæ‰€éœ€çš„速度ã€å¯†åº¦ã€åŠŸçŽ‡ã€æˆæœ¬ã€å¯é 性以åŠå¤§å°ç‰å› ç´ ã€‚é€šéŽç·¨è¯å™¨çš„自動化æ“作,å¯é™ä½Žéžç¶“å¸¸æ€§å·¥ç¨‹æˆæœ¬ï¼Œå¹¶å¯æ¸›å°‘手動陣列優化相關的潛在錯誤。編è¯å™¨ä¸ä½†å¯ä½¿å®¢æˆ¶çš„å…§æ ¸å¤§å°ã€æŽ¥å£ä»¥åŠé•·å¯¬æ¯”å‡é”åˆ°æœ€ç†æƒ³æ•¸å€¼ï¼Œè€Œä¸”é‚„å¯å¹«åŠ©ä»–å€‘æœ€å¤§é™åº¦åœ°ç¸®çŸä¸Šå¸‚æ™‚é–“ã€‚ä½œç‚ºç·¨è¯æµç¨‹çš„一部分,編è¯å™¨é‚„å¯å‘è¨è¨ˆå¸«æä¾›å˜å„²å™¨é™£åˆ—的電氣ã€ç‰©ç†ã€ä»¿çœŸï¼ˆVerilog)ã€BIST/DFT模型以åŠç¶œåˆè¦–圖。
表2:嵌入å¼å˜å„²å™¨IPçš„å•†æ¥æ¡ˆä¾‹
çµè«–
為ASIC/SOC鏿“‡æœ€å„ªåµŒå…¥å¼å˜å„²å™¨IP是è¨è¨ˆæ±ºç–的關éµã€‚è¨è¨ˆå¸«æ‡‰äº†è§£é©ç”¨äºŽå…¶ç‰¹å®šæ‡‰ç”¨ç¨‹åºçš„æœ€ä½³å˜å„²å™¨ç‰¹æ€§çš„æ‰€æœ‰é—œéµåƒæ•¸ï¼Œå…¶å°‹æ±‚çš„å˜å„²å™¨IPæ‡‰å…·æœ‰è¶³å¤ çš„é©æ‡‰æ€§ï¼Œå¯æ»¿è¶³ç›®æ¨™SoCçš„å„ç¨®éœ€æ±‚ã€‚ç›¡ç®¡æœ‰ç¾æˆçš„å…è²»å˜å„²å™¨IPå¯ä¾›ä½¿ç”¨ï¼Œä½†èˆ‡å¯ç‚ºç‰¹å®šæ‡‰ç”¨ç¨‹åºæä¾›æ›´å¥½ç‰¹æ€§çš„æ”¶è²»IP相比,它并ä¸èƒ½ç¸½æ˜¯æä¾›æœ€ä½³è§£æ±ºæ–¹æ¡ˆã€‚
ç¶“éŽå……分調試的å˜å„²å™¨IP具有體ç©å°ã€æ³„露功率低ã€å‹•態能耗低ã€é€Ÿåº¦å¿«ç‰ç‰¹é»žï¼Œå¯ä½¿è¨è¨ˆå¸«çš„解決方案進一æ¥å„ªåŒ–,ä¸ä½†å¯åœ¨ç”¢å“的整個壽命周期內,帶來上百è¬ç¾Žå…ƒçš„çµä½™ï¼Œè€Œä¸”ä¹Ÿä½¿å…¶èŠ¯ç‰‡åœ¨ç«¶çˆæ¿€çƒˆçš„ASIC/SOCå¸‚å ´ä¸Šï¼Œå¾—åˆ°æ›´å¥½çš„å·®ç•°åŒ–ã€‚
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