隨著半導體大廠先進制程芯片競爭日益升溫，EUV光刻機成為市場“香餑餑”，引發業界關注。
目前，英特爾率先拿到了ASML High-NA EUV光刻機設備，并于近期宣布該臺光刻機完成組裝。三星也不甘示弱，表示將與ASML EUV光刻機組件供應商蔡司聯手，在EUV領域深化合作。與此同時，ASML第二臺High-NA EUV光刻機也傳出交付的消息，但買家成謎。
三星與蔡司聯手，深化EUV合作
韓媒報道，三星電子的執行董事長李在镕(Jay Y. Lee)近期在德國會見了蔡司總裁兼首席執行官卡爾·蘭普雷希特(Karl Lamprecht)及其他公司高管。
會議上，雙方同意擴大在EUV技術和尖端半導體設備研發方面的合作，以增強兩家公司在晶圓代工代工和存儲芯片領域的業務競爭力。通過這次合作，三星希望提升下一代半導體技術，優化芯片制造流程，提高先進芯片的生產良率。
蔡司還計劃到2026年投資480億韓元在韓國建設研發中心，加強同三星等韓企的戰略合作。
資料顯示，蔡司是光學與光電解決方案開發商，也是光刻機大廠ASML EUV光刻機獨家供應商，每臺EUV光刻機中包含了三萬多個由蔡司提供的組件。蔡司在EUV技術方面擁有超過2000項核心專利，其掌握的技術可以在高性能先進芯片生產中發揮重要作用。
未來，三星電子和蔡司將進一步擴大雙方在EUV技術和先進半導體設備相關領域的合作。
ASML第二臺High NA EUV光刻機已交付?
近期，英特爾表示完成ASML High NA EUV光刻機的安裝，已進入光學系統校準階段。這是ASML生產的首臺High NA EUV光刻機，價值高達3.5億歐元，英特爾計劃用該款設備生產1.8nm以下的先進制程芯片。
媒體報道，除了英特爾以外，臺積電、三星、美光等廠商也向ASML訂購了High NA EUV光刻機。ASML財報中透露，今年第一季度公司新增訂單金額為36億歐元，其中6.56億歐元為EUV光刻機訂單。近期ASML對外交付了第二臺High NA EUV光刻機，但未透露買家信息。
目前兩臺High NA EUV光刻機并無法滿足市場對先進制程芯片的需求，未來ASML還計劃生產更多高端光刻機設備。
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